Polska Izba Rzeczników Patentowych szuka chętnych na aplikację rzecznikowską. Zainteresowani kandydaci mogą składać wnioski do 5 września 2025 r. Egzamin wstępny zaplanowano na 20 września 2025 r.

Rzecznik patentowy jest wyspecjalizowanym pełnomocnikiem, który wspiera przedsiębiorców, instytuty badawcze, uczelnie wyższe, start-upy oraz indywidualnych wynalazców w ochronie ich praw własności intelektualnej. Do jego kompetencji należy ochrona wynalazków, wzorów użytkowych i przemysłowych, znaków towarowych, oznaczeń geograficznych, a także praw autorskich.

Rzecznik patentowy ma prawo występować przed Urzędem Patentowym RP. Przygotowuje on, nie tylko dokumentację zgłoszeniową do UPRP, ale także prowadzi całe postępowanie zgłoszeniowe przed urzędem, a jeśli dojdzie do sporu występuje jako pełnomocnik.

Część z nich prowadzi kancelarie patentowe, niektórzy pracują w kancelariach adwokackich lub radcowskich, inni jako in-house lawyer, na uczelni wyższej, w firmach.

- Znaczenie tego zawodu rośnie z każdym rokiem. Rzecznicy patentowi są dziś nie tylko strażnikami własności intelektualnej, ale także partnerami strategicznymi biznesu i nauki. To profesja oferująca szerokie możliwości kariery – od pracy w międzynarodowych kancelariach, poprzez sektor badań i rozwoju, aż po prowadzenie własnej praktyki – tłumaczy Dorota Rzążewska, prezes Polskiej Izby Rzeczników Patentowych.

Warunki naboru

Aby rozpocząć aplikację, kandydat musi posiadać tytuł magistra studiów wyższych. Co istotne, nie jest wymagane ukończenie kierunku prawniczego ani technicznego. Aplikantem może zostać absolwent dowolnego kierunku, który jest przydatny do wykonywania zawodu rzecznika, takiego jak biologia, chemia, medycyna, farmacja, informatyka, ekonomia czy fizyka.

Aplikacja trwa sześć semestrów, czyli trzy lata. Zajęcia prowadzone są w trybie zaocznym, zazwyczaj w formie 5- 6 zjazdów weekendowych w semestrze, które odbywają się w Warszawie. Zajęcia mają charakter całodniowy i obejmują zarówno wykłady, jak i ćwiczenia praktyczne. Warunkiem zaliczenia semestru jest obecność na zajęciach oraz zaliczenie przewidzianych prac pisemnych. Integralną częścią aplikacji są również obowiązkowe praktyki w Urzędzie Patentowym RP oraz praktyczne szkolenie pod okiem wyznaczonego patrona.

Patronem może zostać czynny rzecznik patentowy. Jego rola nie ogranicza się jedynie do formalnego nadzoru, to także realna pomoc i mentoring. Aplikanci mają możliwość uczestniczenia w sprawach prowadzonych przez patrona, a także wykonują zadania praktyczne, które pozwalają na zdobycie doświadczenia zawodowego. Choć aplikant i patron nie muszą pracować w tym samym miejscu, forma współpracy jest elastyczna i dostosowywana indywidualnie.

Kandydaci, którzy nie mają jeszcze patrona, mogą samodzielnie nawiązać kontakt z kancelariami patentowymi. Wiele z nich ogłasza rekrutację aplikantów na swoich stronach internetowych. W razie trudności, PIRP pomaga w znalezieniu odpowiedniego patrona.

Ile kosztuje aplikacja

Po ukończeniu zajęć i odbyciu praktyk, aplikant zdaje państwowy egzamin kwalifikacyjny. Składa się on z trzech części. Pierwsza część polega na przygotowaniu opisu zgłoszenia wynalazku do ochrony. Druga, na napisaniu opinii prawnej z zakresu prawa własności przemysłowej. Trzecia, na opracowaniu pisma procesowego. Egzamin sprawdza zarówno wiedzę teoretyczną, jak i praktyczne umiejętności wymagane w zawodzie rzecznika patentowego.

Aplikacja jest odpłatna. Opłaty wnosi się z góry za każdy semestr. Ich wysokość uzależniona jest od przeciętnego wynagrodzenia w gospodarce narodowej w roku poprzedzającym. Roczna opłata za aplikację wynosi równowartość dwukrotności tej kwoty. W 2024 roku przeciętne wynagrodzenie wyniosło 7140,52 zł, czyli opłata roczna za aplikację w 2025 roku to 14 281,04 zł.

Obecnie w Polsce zawód rzecznika patentowego wykonuje około tysiąca osób. Z roku na rok rośnie jednak zapotrzebowanie na specjalistów w tej dziedzinie, zwłaszcza w związku z rozwojem nowych technologii, rosnącą liczbą innowacji i coraz większą świadomością znaczenia ochrony praw własności intelektualnej.